專利申請(qǐng)是非常重要的事情，而且申請(qǐng)過程中需要很多資料。那對(duì)于專利申請(qǐng)，你需要知道哪些?今天我們一起來看看廣州專利申請(qǐng)公司介紹的專利申請(qǐng)常識(shí)!

一、獲得專利可以有如下兩種途徑

1、購買別人已經(jīng)申請(qǐng)成功、獲得國家專利局授權(quán)的專利。俗稱專利轉(zhuǎn)讓。

2、如果你有發(fā)明創(chuàng)造符合申請(qǐng)專利的條件，并且有資金去申請(qǐng)，可以去專利局提出申請(qǐng)，即為新申請(qǐng)。

二、申請(qǐng)專利的條件

中國專利共有三種類型：發(fā)明、實(shí)用新型、外觀設(shè)計(jì)。

申請(qǐng)專利的發(fā)明創(chuàng)造應(yīng)當(dāng)具備新穎性、創(chuàng)造性和實(shí)用性。

對(duì)違反國家法律、社會(huì)公德或者妨害公共利益的發(fā)明創(chuàng)造，以及下列各項(xiàng)，不授予專利權(quán)：

(1)科學(xué)發(fā)現(xiàn);

(2)智力活動(dòng)的規(guī)則和方法;

(3)疾病的診斷和治療方法;

(4)動(dòng)植物品種;

(5)用原子核變換方法獲得的物質(zhì)。

(6)對(duì)以上第4項(xiàng)所列產(chǎn)品的生產(chǎn)方法、可以依照專利法規(guī)定授予專利權(quán)。

三、申請(qǐng)發(fā)明或?qū)嵱眯滦蛯＠毺峤患夹g(shù)交底書

1、技術(shù)交底書的要求

應(yīng)清楚、完整地寫明發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷膬?nèi)容;

使所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員能夠根據(jù)此內(nèi)容實(shí)施發(fā)明創(chuàng)造;

使上述人員相信本發(fā)明確實(shí)可以解決現(xiàn)有技術(shù)不能解決的問題。

2、技術(shù)交底書的內(nèi)容

發(fā)明創(chuàng)造的名稱;

所屬技術(shù)領(lǐng)域;

背景技術(shù)：描述申請(qǐng)人所知的與發(fā)明方案最接近的已有技術(shù)，對(duì)其存在的問題或不足進(jìn)行客觀的評(píng)述;發(fā)明創(chuàng)造所要解決的技術(shù)問題;清楚、完整地?cái)⑹霭l(fā)明創(chuàng)造的技術(shù)方案;對(duì)于機(jī)械產(chǎn)品的發(fā)明創(chuàng)造應(yīng)詳細(xì)說明每一個(gè)結(jié)構(gòu)零部件的形狀、構(gòu)造、部件之間的連接關(guān)系、空間位置關(guān)系、工作原理等;對(duì)于電器產(chǎn)品應(yīng)描述電器元件的組成、連接關(guān)系;對(duì)于無固定形狀和結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品，如粉狀或流體產(chǎn)品、化學(xué)品、藥品，應(yīng)描述其組分及其含量、制造工藝條件和工藝流程等;對(duì)于方法發(fā)明，應(yīng)描述操作步驟、工藝參數(shù)等;與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明所具有的優(yōu)點(diǎn)和有益效果，例如性能的提高、成本的降低等。

附圖：

實(shí)用新型必須提供附圖，附圖中構(gòu)成件可以有標(biāo)記，尺寸和參數(shù)不必標(biāo)注。

優(yōu)選具體實(shí)施方式(可與第4部分合寫)：

對(duì)于產(chǎn)品發(fā)明應(yīng)描述產(chǎn)品構(gòu)成、電路構(gòu)成或者化學(xué)成分、各部分之間的相互關(guān)系、工作過程或操作步驟;對(duì)于方法發(fā)明應(yīng)寫明步驟、參數(shù)、工藝條件等，可提供多個(gè)具體實(shí)施方式。

四、申請(qǐng)外觀設(shè)計(jì)專利須提交圖片或照片

1、圖片、照片的要求

圖片或照片的尺寸不得小于3厘米×8厘米，并不得大于15厘米× 2厘米;

圖片必須用電腦繪制或正規(guī)制圖工具繪制;

各個(gè)視圖的比例必須一致;

圖片或照片中不得包含有不能作為要求保護(hù)的外觀設(shè)計(jì)具體內(nèi)容的圖形、文字，如人物肖像、商標(biāo)、標(biāo)志、名著、著名建筑物等，或者不得包含有應(yīng)刪除的線條，如視圖中的陰影線、指示線、虛線、中心線、尺寸線等。

2、圖片或照片的內(nèi)容

提交主視圖、后視圖、俯視圖、仰視圖、左視圖、右視圖(相同或?qū)ΨQ的視圖可省略);

產(chǎn)品設(shè)計(jì)要點(diǎn)僅涉及一個(gè)或幾個(gè)面的，可以僅提交所涉及面的正投影視圖和立體圖;就平面外觀設(shè)計(jì)產(chǎn)品而言，產(chǎn)品設(shè)計(jì)要點(diǎn)涉及一個(gè)面的，可以僅提交該面正投影視圖;產(chǎn)品設(shè)計(jì)要點(diǎn)涉及兩個(gè)面的，應(yīng)當(dāng)提交兩面正投影視圖。

可以增加立體圖和使用狀態(tài)參考圖;

可以增加剖視圖和剖面圖;

圖片或照片各一式一份。

五、專利申請(qǐng)大約時(shí)間

對(duì)于專利申請(qǐng)的種種常識(shí)，相信現(xiàn)在大家已經(jīng)有了簡(jiǎn)單的了解。那大家在專利申請(qǐng)前一定要了解這些，正確申請(qǐng)專利!